Японская Canon ещё в прошлом году передала Intel первую установку для производства чипов методом нанопечати — технологии, которая может заметно удешевить выпуск современных микросхем. Параллельно компания Dai Nippon Printing разработала материал для специализированных матриц, позволяющих наносить на кремниевые пластины рисунок для дальнейшего травления. Его планируют вывести на массовое производство в 2027 году и использовать для создания чипов уровня 1,4 нм.
Такой подход снижает энергозатраты на производство микросхем примерно на 90% по сравнению с классической фотолитографией, использующей мощные лазеры. Установка Canon при этом стоит около $6,4 млн — в десятки раз меньше, чем передовые фотолитографические сканеры ASML, на которые сейчас приходится до половины себестоимости чипов.
Интерес к технологии проявляют Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, однако их заводы ориентированы на традиционную литографию, и переход возможен только при полной уверенности в перспективности метода. Canon и Nikon некогда были лидерами рынка, но со временем уступили позиции ASML. Теперь японские компании пытаются вернуть роль в отрасли на новом технологическом уровне.